央视正式宣布,国产EUV技术大获突破,ASML总裁预言成真
2021-07-25 15:32:24 时寒峰
摘要: 原标题:央视正式宣布,国产EUV技术大获突破,ASML总裁预言成真 任正非曾表示,我国拥有世界 的芯片设计能力,掌握着世界上 、成熟的芯片制

  原标题:央视正式宣布,国产EUV技术大获突破,ASML总裁预言成真

 

  任正非曾表示,我国拥有世界 的芯片设计能力,掌握着世界上 、成熟的芯片制程工艺,由于光刻机和化学材料被卡了脖子,国内企业无法独自制造出高端芯片。

 

  然而,让所有人没想到的是,不久前,央视正式宣布,国产EUV光刻机取得重大技术突破,且0.1nm的光源设备已投入使用!


  中国突破只需三五年

 

  随着科技的发展,智能电子产品的普及,很多领域的发展都已离不开芯片的支撑,掌握芯片已上升为世界各国的战略层次。

 

  众所周知,我国进入半导体领域较晚,西方国家为了防止我国科技的崛起,早在几十年前签订了《瓦森堡协定》,禁止向我国出口高尖端技术,且国内企业过于追求轻资产的发展,而忽视了对重资产投资的重要性,以至于国内所消耗的芯片,70%以上都要依赖进口。

 

  上文也提到了我国为何无法独自制造出高端芯片的原因,光刻机被卡了脖子!或许有的人会问,我们原子弹都能造出来,为何造不出EUV光刻机?

 

  EUV光刻机的制造是一个项目工程,不仅需要大量的高尖端技术,还需要海量的高精密元器件。如ASML公司制造的EUV光刻机,所需的元器件高达10万件,来自世界上35个国家的1500多个企业,且每一件都代表着业内的最高水准。值得一提的是,ASML公司制造EUV光刻机所需的核心元器件,没有一件是来自我国企业,可以预见,我国要制造EUV光刻机的难度有多大。

 

  随着美国不断对我国企业进行芯片制裁,让我们意识到:在当今这个时代,要想摆脱被人鱼肉的命运,就必须实现技术独立,制造出EUV光刻机,实现高端芯片的国产化。

 

  2020年9月16日,中科院正式宣布,已根据“卡脖子清单”成立了对应的科研攻关小组,且光刻机技术攻关团队的每一位科研人员立下了军令状,争取在短时间内攻克技术难关,制造出国产EUV光刻机。

 

  随着国内“造芯”浪潮的掀起,ASML公司总裁在不久前发出警告:如果不将光刻机卖给中国,三五年之后,中国就会拥有自己的光刻机,凭借着强大的成本优势,很可能在15年之内将ASML公司逼出光刻机市场。

 

  如今,随着央视一则关于国产EUV光刻机的发布,终于进一步验证了ASML总裁的预言。

 

  国产EUV技术大获突破

 

  近日,央视正式宣布:我国已经在EUV光源和双工件台技术上取得重大突破!

 

  据央视公开的消息来看,中科院自研的国内首台高能光源设备已经开始使用,且安装完成度已超过70%。中科科美也掌握了透镜镀膜技术,制造出了光学零件0.1nm的镀膜设备。

 

  了解EUV光刻机的朋友都知道,EUV光刻机是由3个核心部分构成的:EUV光源、双工件台和EUV光学镜头。如今,我们已经突破了EUV光源和双工件台技术,这也就意味着,我们只要实现了EUV光学镜头的制造,即可制造出国产EUV光刻机。

 

  写在最后

 

  在这个经济全球化的时代,各国企业之间的联系越来越紧密,分工越来越清晰,已经形成了“你中有我,我中有你”的现象,如果一家企业受到非正常的“攻击”,整个产业链都会受到严重的影响,美国制裁华为,加剧世界“芯荒”就是一个很好的证明。

 

  国内半导体行业不断传出的好消息,向世界传递了一个重要信息:任何要想奴役我们科技的国家,必将会在我国企业、科研人员和14亿国人用血肉筑成的铜墙铁壁面前,碰得头破血流!

投稿:lukejiwang@163.com
点击展开全文
小福利:支-付-宝首页搜索“536209668”每天可领,人人可领,快抢98元大红包。
Copyright © 2002-2021 鹿科技